Durante os testes de campo de fluxo e em túnel de vento, há necessidade de equipamentos de detecção de ultra alta velocidade. Bojiong apresentou o sensor Wavefront de ultra alta velocidade. Este dispositivo apresenta resistência à vibração ultra-alta, estabilidade ultra-alta e recursos de imagem em velocidade ultra-alta, permitindo medições de precisão de nível nano sem a necessidade de isolamento de vibração. Possui baixos requisitos de coerência da fonte de luz e não requer mudança de fase. Medições interferométricas podem ser obtidas usando sistemas de imagem comuns.
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Nome do Produto |
Sensor Wavefront de ultra alta velocidade |
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Faixa de comprimento de onda |
400nm~1100nm |
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Tamanho alvo |
10,24 mm × 10,24 mm |
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Resolução espacial |
24,4μm |
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Resolução de amostragem |
420×420（176400 pixels） |
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Resolução de fase |
<2nmRMS |
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Precisão absoluta |
10nmRMS |
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Faixa dinâmica |
132μm（210λ） |
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Taxa de amostragem |
107 fps |
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Velocidade de processamento em tempo real |
10 Hz (resolução total) |
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Tipo de interface |
Suporta processamento em lote atrasado |
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Dimensão |
CORTAR |
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Peso |
56,5 mm × 43 mm × 41,5 mm |
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Faixa de comprimento de onda |
cerca de 120g |
◆Resolução ultra-alta de 420×420 (176400) pontos de fase
◆2nm RMS de alta resolução de fase
◆ Taxa de quadros de amostragem de até 107 fps
◆Autointerferência de luz de canal único, sem necessidade de luz de referência
◆ Banda de amplo espectro de 400nm ~ 1100nm
◆Desempenho antivibração extremamente forte, sem necessidade de isolamento óptico de vibração
◆ Assim como a imagem, construção de caminho óptico fácil e rápida
◆ Suporta feixes colimados e grandes feixes convergentes NA
Este sensor de frente de onda de ultra alta velocidade BOJIONG é usado na detecção de rugosidade de superfície de wafer, medição de micromorfologia de substrato de vidro e à base de silício, óptica aerodinâmica, campo de fluxo de alta velocidade, medição de densidade de plasma de gás
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detecção de frente de onda por feixe de laser |
Medição óptica da forma da superfície plana |
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Exemplo de medição de rugosidade superficial de wafer |
Exemplo de medição de gráfico de frente de onda reconstruída |
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Caminho óptico de medição de densidade de plasma de gás |
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Sensor Wavefront de ultra alta velocidade BOJIONG desenvolvido por uma equipe de professores da Universidade de Zhejiang e da Universidade Tecnológica de Nanyang de Cingapura, com tecnologia patenteada nacional, combina difração e interferência para obter uma interferência de cisalhamento transversal comum de quatro ondas, com sensibilidade de detecção superior e anti - desempenho de vibração e pode realizar interferometria dinâmica em tempo real e de alta velocidade sem isolamento de vibração. A medição em tempo real mostra uma taxa de quadros superior a 10 quadros. Ao mesmo tempo, o sensor FIS4 tem uma resolução de fase ultra-alta de 512×512 (260.000 pontos de fase), a banda de medição cobre 200nm ~ 15μm, a sensibilidade de medição atinge 2nm e a repetibilidade da medição é melhor que 1/1000λ ( RMS). Ele pode ser usado para análise de qualidade de feixe de laser, detecção de campo de fluxo de plasma, medição em tempo real de distribuição de campo de fluxo de alta velocidade, avaliação de qualidade de imagem de sistema óptico, medição de perfil microscópico e imagem quantitativa de fase de células biológicas.
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Parâmetros técnicos FIS4 de cada série de produtos |
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produtos |
FIS4-UV |
FIS4-RH |
RELÓGIO FIS4 |
FIS4-HS |
Célula FIS4 |
FIS4-NIR |
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Faixa de comprimento de onda |
200~450nm |
400~1100nm |
400~1100nm |
400~1100nm |
400~1100nm |
900 ~ 1200 nm |
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Tamanho alvo mm² |
13,3×13,3 |
7,07×7,07 |
13,3×13,3 |
10,24×10,24 |
7,07×7,07 |
13,3×13,3 |
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Resolução espacial |
26μm |
23,6μm |
26μm |
24,4μm |
23,6μm |
26μm |
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Pixel da imagem |
- |
2048×2048 |
- |
- |
2048×2048 |
- |
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Resolução de saída de fase |
512×512 （262144 pixels） |
300×300（90000 pixels） |
512×512（262144 pixels） |
420×420（176400 pixels） |
300×300（90000 pixels） |
512×512（262144 pixels） |
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Resolução de fase |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
<2nmRMS |
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Precisão absoluta |
10nmRMS |
10nmRMS |
15nmRMS |
10nmRMS |
10nmRMS |
15nmRMS |
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Faixa dinâmica |
90μm （256min） |
110μm （150min） |
162μm （256min） |
132μm （210min） |
110μm （150min） |
270μm （256min） |
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Taxa de amostragem |
32 fps |
24 fps |
45 fps |
107 fps |
24 fps |
45 fps |
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Velocidade de processamento em tempo real |
10Hz (Resolução total) |
10Hz (Resolução total) |
10Hz (Resolução total) |
10Hz (Resolução total) Suporta processamento em lote atrasado |
10Hz (Resolução total) |
10Hz (Resolução total) |
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Tipo de interface |
USB3.0 |
CORTAR |
USB3.0 |
CORTAR |
CORTAR |
USB3.0 |
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Interface externa |
- |
- |
- |
- |
Porta C |
- |
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Tamanho mm² |
70x46,5x68,5 |
56,5x43x41,5 |
70x46,5x68,5 |
56,5x43x41,5 |
56,5x43x41,5 |
70x46,5x68,5 |
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peso |
cerca de 240g |
cerca de 120g |
cerca de 240g |
cerca de 120g |
cerca de 120g |
cerca de 240g |
Endereço
Nº 578 Yingkou Road, distrito de Yangpu, Xangai, China
Tel
